SJT 10274-1991 掩模对准曝光机测试方法
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日期: |
2009-6-11 |
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SJ,中华人民共和国电子工业行业标准,SJ/T 10274一91,掩模对准曝光机测试方法,1991-11-12发布1992-01-01实施,中华人民共和国机械电子工业部发布,中华人民共和国电子工业行业标准,掩模对准曝光机测试方法S7/T 10274-91,Test methods叨mask &Lgnment,an d e x po su res ystem,主题内容与适用范围,本标准规定了测试掩模对准曝光机(以下简称“曝光机勺的一般要求和方法,本标准适用于接触式和接触一接近式曝光机,弓1用标准,GB 11481,GB 7237,GB 4857.9,GB 5398,掩模对准曝光机通用技术条件,铭版,运输包装件基本试验喷淋试验方法,大型运输包装件试验方法,术语,除下 列 术 语外,本标准所用有关术语按GB1 1481第3章规定,3.1 定时误差,采 用 定 时系统控制曝光t时,实际曝光时间与设定曝光时间的相对误差,3.2 定时重复性误差,定 时 系 统曝光时间设定后,实际曝光时间的离散度,用实测曝光时间的相对误差表,3n.:,3 光食积分系数,采用光积分方法控制曝光量时,实际曝光量与相应挡次标称值比应为定值卜这一值称,为光量积分系数,3.4 光云积分误差,光 量 积 分系数与每设定积分档次下积分系数值的相对误差,3.5 光量重复性误差,积分 系 统 积分档次设定后,光强发生变化时,实际曝光量的离散度,用实际曝光量的,相对误差表示,3.6 恒光强波动度,中华人民共和国机械电子工业部1991-11-12批准1992-01-01实施,1,sa/T 10274-91,恒光 强 系 统进入热稳定状态后,曝光光束光强值的变化程度,用在规定时间内实际光,强值的相对误差表示,3.7 曝光间隙误差,接 近 式 曝光的实际堪光间隙与设定喂光间隙标称值的相对误差.,38 曝光间隙重复性误差,曝光 间 隙 设定后,实际曝光间隙值的离散度,用实测曝光间隙的相对误差表示,4 试验条件,4.1 环境条件,4.1.1 试验期间的环境条件应达到相应标称分辨率的要求,见表1(在不影响曝光机性,能的前提下,一般测试可参照表1要求,适当降低指标),4.1.2 工作间内不得有腐蚀性气体.,4.1.3 对带有计算机的曝光机,还应按有关要求,进行电磁屏蔽,表 1,甲光分辨率,协 】】 】,祖度℃ 相对湿度,%,1M*1lt,敬,振动幅度N.,冬季X 季}mm > 101七镇101u,《l. 0,2 0 25,士0.5,35^-50,10 < 2 < 1,> 工.0-3.0 士1.0 100 <3 < 1 5,>3.0 ^-5.0 士2,0 100 <3 < 1。5,>5。0 士2.5 1000 < 4 < 2,4.2 电源条件,4. 2. 1 试验期间,电源电压的波形畸变率不超过10%,电源电压的波动值不超过,士10肠,4.2.2 试验期间,电源频率的波动值不得超过士1%0,车3 气压条件,4.3.1 试验期间,气动系统的供气气压不得低于额定值的5环,4.3.2 试验期间,真空系统的压力不得超过额定值的5%.,4.4 测量仪器仪表,测 试 所 用的仪器仪表应经计量检定合格,并在其有效期内,东5 试验器材,本5.1 基片,测试 用 基 片选用硅研磨片,应满足曝光机标称曝光分辨率的要求,东5.2 掩模版,测 试 用 掩模版应满足曝光机标称分辨率的要求,其质量应符合GB 7237的规定,东5.3 光致抗蚀剂,按 曝 光 机的有效i16线选用正性光致抗蚀剂,SJ/T 10274一91,5 试验方法,5.1 环境条件检查,5.1.1 温度、相对湿度检查,试 验 期 间,用精度不低于1级的干湿球湿度计每化测试一次环境的温度、相对湿度,干湿球湿度计置放位置如图1所示。应置放在与工作台高度一致,没有气流的地方,图 1 干 湿 球 湿 度 计 置 放 位 置 示 意 图,51.2 洁净度检查,试验 期 间 ,每化测试一次沽净度。选用测试精度能满足相应洁净度等级的光学粒子,什数器检测有效工作区域的洁净度。取样位置如图2所示,图 2 光 学 粒 子 计 数 器 取 样 位 置 示 意 图,5.1.3 地面振动检查,试验 期 间 ,测试一次地面振动幅度,振动分析仪的拾振装置应置放于工作台机座附,近,5.2 外观检查,521 用目视法讲杆夕卜I叭后话粉杏_,SJ/T 10274-91,5.2.2 用手感方法检查移动机构的空位及运动情况,53 安全检查,5.3.1 用自动击穿装置在500V直流电压下,测量初级线路与机壳之间的绝缘电阻,5.3.2 用自动击穿装置在1500V,50Hz交流电压下,测A漏电流值。试压lmin,观察有无,击穿和放电现象,5.3.3 用目视法检查接地标志,54 显微镜检查,5.4.1 调节显微镜的目镜、物镜,用手感及目视法检查目镜、物镜中心距调节性能、光轴,平行性、左右视场的齐焦程度以及左右显微镜倍率的一致性.,调 节 显 微镜视场亮度,用目视法检查视场的亮度变化及清晰度,5.4.2 调节显微镜,选择相应分辨率版,通过能识别的线宽,检查显微镜的分辨能力是否,满足曝光机标称分辨率的需要,5.4. 3 调节显微镜物镜与基片相对位置,用1级千分表测A能识别相应线宽的调节范,围。此调节范围即为显徽镜焦深.,5.5 曝光系统检查,5.5.1 调节嗓光灯X,Y,Z方向位置,并检查启辉性能,5.5.2 开启曝光灯lOm in后,选用精度不低于0.33 mW/ Cm z,物试波长为365nm,404.7, 的紫外照度计检测光强不均匀性。测量点……
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